Virtual Metrology applied in Run-to-Run Control for a Chemical Mechanical Planarization process - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physics: Conference Series Année : 2017

Virtual Metrology applied in Run-to-Run Control for a Chemical Mechanical Planarization process

M. Jebri
  • Fonction : Auteur
M. El Adel
  • Fonction : Auteur
G. Graton
  • Fonction : Auteur
J. Pinaton
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-01893099 , version 1 (11-10-2018)

Identifiants

Citer

M. Jebri, M. El Adel, G. Graton, M. Ouladsine, J. Pinaton. Virtual Metrology applied in Run-to-Run Control for a Chemical Mechanical Planarization process. Journal of Physics: Conference Series, 2017, 783, ⟨10.1088/1742-6596/783/1/012042⟩. ⟨hal-01893099⟩
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