Novel Si-containing high-χ block-copolymer for nanolithography application: PS-b-PDMSB - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Novel Si-containing high-χ block-copolymer for nanolithography application: PS-b-PDMSB

Domaines

Physique [physics]

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01882738

Soumis le : jeudi 27 septembre 2018-13:04:55

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:53:06

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01882738 , version 1 (27-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01882738 , version 1

Citer

A. Legrain, J. Arias-Zapata, S. Böhme, C. Girardot, C. Navarro, et al.. Novel Si-containing high-χ block-copolymer for nanolithography application: PS-b-PDMSB. Micro- and Nano-Engineering conference - MNE 2016, Sep 2016, Vienne (Autriche), Austria. ⟨hal-01882738⟩

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