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Article Dans Une Revue Journal of Physics D: Applied Physics Année : 2015

Key plasma parameters for nanometric precision etching of Si films in chlorine discharges

Domaines

Physique [physics]

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01878054

Soumis le : jeudi 20 septembre 2018-15:51:35

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Dates et versions

hal-01878054 , version 1 (20-09-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01878054 , version 1

Citer

P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O. Mourey, O. Joubert. Key plasma parameters for nanometric precision etching of Si films in chlorine discharges. Journal of Physics D: Applied Physics, 2015, pp.118, 053303. ⟨hal-01878054⟩

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