Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition

L. Tian (1) , S. Ponton (1) , M. Benz (1) , A. Crisci (1) , R. Reboud (1) , G. Giusti (2) , F. Volpi (1) , Laetitia Rapenne (3) , Corentin Vallée (4) , M. Pons (1) , A. Mantoux (1) , Carmen Jiménez (3) , E. Blanquet (1)

1 SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
2 SIL’TRONIX-ST, Archamps, France
3 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
4 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines: Matériaux

L. Tian, S. Ponton, M. Benz, A. Crisci, R. Reboud, et al.. Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition. Surface and Coatings Technology, 2018, 347, pp.181 - 190. ⟨10.1016/j.surfcoat.2018.04.031⟩. ⟨hal-01809316⟩