Low frequency noise assessment in n- and p-channel sub-10nm triple-gate FinFETs: Part I: Theory and methodology - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Solid-State Electronics Année : 2017

Low frequency noise assessment in n- and p-channel sub-10nm triple-gate FinFETs: Part I: Theory and methodology

B. Cretu
E. Simoen
  • Fonction : Auteur
Régis Carin
A. Veloso
  • Fonction : Auteur
A. Thean
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01712351 , version 1 (19-02-2018)

Identifiants

Citer

D. Boudier, B. Cretu, E. Simoen, Régis Carin, A. Veloso, et al.. Low frequency noise assessment in n- and p-channel sub-10nm triple-gate FinFETs: Part I: Theory and methodology. Solid-State Electronics, 2017, 128, pp.102 - 108. ⟨10.1016/j.sse.2016.10.012⟩. ⟨hal-01712351⟩
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