Article Dans Une Revue
Vacuum
Année : 2008
Olivier RAPAUD : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01620681
Soumis le : vendredi 20 octobre 2017-19:22:43
Dernière modification le : vendredi 4 août 2023-15:04:36
Citer
Z.G. Zhang, O. Rapaud, N. Bonasso, D. Mercs, C. Dong, et al.. Control of microstructures and properties of dc magnetron sputtering deposited chromium nitride films. Vacuum, 2008, 82 (5), pp.501 - 509. ⟨10.1016/j.vacuum.2007.08.009⟩. ⟨hal-01620681⟩
Collections
39
Consultations
0
Téléchargements