Structural and optical properties of TiO2 thin films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Structural and optical properties of TiO2 thin films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Domaines

Plasmas Matériaux Optique / photonique

Bruno Bêche  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01552421

Soumis le : dimanche 2 juillet 2017-20:04:46

Dernière modification le : lundi 15 avril 2024-11:25:23

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01552421 , version 1 (02-07-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01552421 , version 1

Citer

Thomas Schneider, Thomas Begou, A. Soussou, Antoine Goullet, Marie-Paule Besland, et al.. Structural and optical properties of TiO2 thin films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. 16th International Colloquium on Plasma Processes, 2007, Toulouse, France. ⟨hal-01552421⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UNIV-NANTES UNIV-RENNES1 CNRS UNIV-AMU IF EC-MARSEILLE IMN OSUR LOMA IPR PCM UR1-UFR-SPM UNIV-RENNES UR1-MMS NANTES-UNIVERSITE
132 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More