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Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Reduction of plasma induced damage in cryogenic etching of low-k materials

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Thomas Tillocher  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01277115

Soumis le : lundi 22 février 2016-10:16:34

Dernière modification le : lundi 19 février 2024-16:15:58

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01277115 , version 1 (22-02-2016)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01277115 , version 1

Citer

Thomas Tillocher, Floriane Leroy, Liping Zhang, Philippe Lefaucheux, Christian Dussarat, et al.. Reduction of plasma induced damage in cryogenic etching of low-k materials. 4th French Symposium on Emerging Technologies for micro-nanofabrication, Nov 2015, Ecully, France. ⟨hal-01277115⟩

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