Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01006369
Soumis le : lundi 16 juin 2014-00:11:53
Dernière modification le : jeudi 23 novembre 2023-10:48:07
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01006369 , version 1
Citer
Mikhail Baklanov, Liping Zhang, Jean-Francois de Marneffe, Remi Dussart, Andy Goodyear. Low damage cryogenic etching of low-K materials for advanced interconnects. Materials for Advanced Metallization, Mar 2014, Dresden, Germany. ⟨hal-01006369⟩
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