Influence of precursor gases on LPCVD polysilicon TFT 92s characteristics - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2002
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00958794 , version 1 (13-03-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00958794 , version 1

Citer

Régis Rogel, G. Gautier, Nathalie . Coulon, Michel Sarret, Olivier Bonnaud. Influence of precursor gases on LPCVD polysilicon TFT 92s characteristics. E-MRS 2002, Spring meeting, Jun 2002, Strasbourg, France. ⟨hal-00958794⟩
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