Communication Dans Un Congrès
Année : 2013
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00925775
Soumis le : mercredi 8 janvier 2014-15:21:30
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:38
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00925775 , version 1
Citer
R. Blanc, Maxime Darnon, G. Cunge, E. Latu-Romain, F. Leverd, et al.. Si3N4 spacers etching in synchronized pulsed CH3F/O2/He/SiF4 plasmas. AVS 60h international symposium, Oct 2013, Long Beach, United States. ⟨hal-00925775⟩
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