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Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Pulsed plasmas for etching in microelectronics

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00925769

Soumis le : mercredi 8 janvier 2014-15:17:02

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00925769 , version 1 (08-01-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00925769 , version 1

Citer

Maxime Darnon, G. Cunge, C. Petit-Etienne, M. Haass, P. Bodart, et al.. Pulsed plasmas for etching in microelectronics. Journées du réseau plasma froids, 2013, La Rochelle, France. ⟨hal-00925769⟩

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CEA UGA CNRS FMNT LTM PLASMA_ETCHING
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