Deposition of dielectrics using a matrix distributed electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition system - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2007

Deposition of dielectrics using a matrix distributed electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition system

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Sciences de l'ingénieur [physics]

Pavel Bulkin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00915442

Soumis le : samedi 7 décembre 2013-19:40:04

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Dates et versions

hal-00915442 , version 1 (07-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00915442 , version 1

Citer

Roelene Botha, Bicher Haj Ibrahim, Pavel Bulkin, Bernard Drévillon. Deposition of dielectrics using a matrix distributed electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition system. Thin Solid Films, 2007, pp.7594-7597. ⟨hal-00915442⟩

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