Influence of precursor on LPCVD polysilicon TFT's characteristics - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2003

Influence of precursor on LPCVD polysilicon TFT's characteristics

Katell Kervella  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00913123

Soumis le : mardi 3 décembre 2013-11:41:34

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:57

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00913123 , version 1 (03-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00913123 , version 1

Citer

Regis Rogel, G. Gautier, Nathalie . Coulon, Michel Sarret, Olivier Bonnaud. Influence of precursor on LPCVD polysilicon TFT's characteristics. Thin Solid Films, 2003, 427, pp.108-112. ⟨hal-00913123⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

SUPELEC UNIV-NANTES UNIV-RENNES1 CNRS INSA-RENNES IETR UR1-MATH-STIC UR1-UFR-ISTIC IETR-MM UNIV-RENNES INSA-GROUPE UR1-MATH-NUM NANTES-UNIVERSITE
79 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More