Cristallisation par laser argon continu de silicium amorphe déposé sur substrat de verre - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2004

Cristallisation par laser argon continu de silicium amorphe déposé sur substrat de verre

Jean-François Michaud
Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique
CV

Katell Kervella  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00906104

Soumis le : mardi 19 novembre 2013-11:30:10

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:57

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00906104 , version 1 (19-11-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00906104 , version 1

Citer

Jean-François Michaud. Cristallisation par laser argon continu de silicium amorphe déposé sur substrat de verre. JNRDM, May 2004, Marseille, France. pp.135-137. ⟨hal-00906104⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UNIV-NANTES UNIV-RENNES1 CNRS INSA-RENNES IETR UR1-MATH-STIC UR1-UFR-ISTIC UNIV-RENNES INSA-GROUPE UR1-MATH-NUM NANTES-UNIVERSITE
36 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More