Fabrication of highly ordered sub-20 nm silicon nanopillars by block copolymer lithography combined with resist design - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue J. Mat. Chem. C Année : 2013

Fabrication of highly ordered sub-20 nm silicon nanopillars by block copolymer lithography combined with resist design

M. Salaun
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
M. Zelsmann
Laboratoire des technologies de la microélectronique
S. Archambault
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
D. Borah
  • Fonction : Auteur
N. Kehagias
  • Fonction : Auteur
C. Simao
  • Fonction : Auteur
A. Francone
  • Fonction : Auteur
O. Lorret
  • Fonction : Auteur
B. Kosmala
  • Fonction : Auteur
M. T. Shaw
  • Fonction : Auteur
C. M. Sotomayor Torres
  • Fonction : Auteur
M. A. Morris
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00860938

Soumis le : mercredi 11 septembre 2013-14:58:24

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:30:03

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00860938 , version 1 (11-09-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00860938 , version 1

Citer

M. Salaun, M. Zelsmann, S. Archambault, D. Borah, N. Kehagias, et al.. Fabrication of highly ordered sub-20 nm silicon nanopillars by block copolymer lithography combined with resist design. J. Mat. Chem. C, 2013, 1, pp.3544. ⟨hal-00860938⟩

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