Investigations in SF6 and Cl2/Ar plasmas used for titanium deep etching by means of mass spectrometry - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Investigations in SF6 and Cl2/Ar plasmas used for titanium deep etching by means of mass spectrometry

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Thomas Tillocher  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00831352

Soumis le : jeudi 6 juin 2013-17:46:16

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:57

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00831352 , version 1 (06-06-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00831352 , version 1

Citer

Thomas Tillocher, Judith Golda, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, Pierre Ranson, et al.. Investigations in SF6 and Cl2/Ar plasmas used for titanium deep etching by means of mass spectrometry. ESCAMPIG 2012, Jul 2012, Viana do Castelo, Portugal. ⟨hal-00831352⟩

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