Atomic Layer Deposition of TiO2 ultrathin films on 3D substrates for energy applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Atomic Layer Deposition of TiO2 ultrathin films on 3D substrates for energy applications

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00807357 , version 1 (03-04-2013)

Identifiants

Citer

A. Soum-Glaude, L. Tian, E. Blanquet, V. Brizé, L. Cagnon, et al.. Atomic Layer Deposition of TiO2 ultrathin films on 3D substrates for energy applications. MRS 2012, 2012, Strasbourg, France. pp.63-68, ⟨10.1557/opl.2012.913⟩. ⟨hal-00807357⟩
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