Metrological applications of Mueller polarimetry in conical diffraction for overlay characterization in microelectronics - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue European Physical Journal: Applied Physics Année : 2005

Metrological applications of Mueller polarimetry in conical diffraction for overlay characterization in microelectronics

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Tatiana Novikova  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

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Identifiants

  • HAL Id : hal-00789240 , version 1

Citer

Tatiana Novikova, Antonello de Martino, Razvigor Ossikovski, Bernard Drevillon. Metrological applications of Mueller polarimetry in conical diffraction for overlay characterization in microelectronics. European Physical Journal: Applied Physics, 2005, 31, pp.63. ⟨hal-00789240⟩

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