Communication Dans Un Congrès
Année : 2011
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00649913
Soumis le : vendredi 9 décembre 2011-09:35:08
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:00:55
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00649913 , version 1
Citer
F. Chave, L. Vallier, P. Gouraud, S. Baudot, C. Petit-Etienne, et al.. Study of Metallic Interfaces Etching for High-K Metal Gate stacks in CMOS 28 nm Technology. AVS 58th International Symposium and Exhibition, Oct 2011, Nashville, United States. ⟨hal-00649913⟩
53
Consultations
0
Téléchargements