Communication Dans Un Congrès
Année : 2011
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00649911
Soumis le : vendredi 9 décembre 2011-09:31:12
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00649911 , version 1
Citer
F. Chave, L. Vallier, P. Gouraud, S. Baudot, C. Roukoss, et al.. Etching issues with High-K Metal Gate stacks for CMOS 28nm technology. PESM 4th International Workshop, May 2011, Malines, Belgium. ⟨hal-00649911⟩
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