Communication Dans Un Congrès
Année : 2011
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00647646
Soumis le : vendredi 2 décembre 2011-14:00:33
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:41:44
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00647646 , version 1
Citer
Maxime Darnon, T. Chevolleau, N. Possémé, T. David, O. Joubert. Challenges of porous SiCOH dielectric material integration for advanced interconnect technology nodes. CMOS Emerging Technologies, Jun 2011, Whistler, Canada. ⟨hal-00647646⟩
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