Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00647625
Soumis le : vendredi 2 décembre 2011-13:43:39
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:22:33
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00647625 , version 1
Citer
Maxime Darnon, N. Posseme, D. Eon, T. David, T. Chevolleau, et al.. Etching of Narrow Porous SiOCH Trenches Using a TiN Metallic Hard Mask. AVS 52nd international symposium, Oct 2005, Boston, United States. ⟨hal-00647625⟩
161
Consultations
0
Téléchargements