Low k Integration Using Metallic Hard Masks - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00647612 , version 1 (02-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00647612 , version 1

Citer

O. Joubert, N. Possémé, T. David, T. Chevolleau, Maxime Darnon. Low k Integration Using Metallic Hard Masks. Materials Research Society spring meeting (MRS) 2011, Apr 2011, San Francisco, United States. ⟨hal-00647612⟩
130 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More