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Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Synchronous Plasma Pulsing for silicon Etch Applications

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00643921

Soumis le : mercredi 23 novembre 2011-11:41:32

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:34:25

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00643921 , version 1 (23-11-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00643921 , version 1

Citer

Maxime Darnon, C. Petit-Etienne, E. Pargon, G. Cunge, L. Vallier, et al.. Synchronous Plasma Pulsing for silicon Etch Applications. China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), 2010, Shangai, China. ⟨hal-00643921⟩

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