Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2010
Sylvie Garcia : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00626789
Soumis le : mardi 27 septembre 2011-09:59:37
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:58:32
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00626789 , version 1
Citer
Christelle Dubois, Alain Sylvestre, H. Chaabouni, A. Farcy. Impact of the CMP process on the electrical properties of ultra low k porous SIOCH. Microelectronic Engineering, 2010, 87, pp.333-336. ⟨hal-00626789⟩
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