Chambre à Vide de Caractérisation Haute Tension de Composants Semiconducteurs Nus - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Chambre à Vide de Caractérisation Haute Tension de Composants Semiconducteurs Nus

Résumé

La caractérisation de composants de puissance réalisés à partir de substrat semiconducteur à grand gap nécessite des moyens de mesure adaptés. Nous avons mis en place une chambre expérimentale permettant la caractérisation de composants nus. Elle permet de caractériser des composants haute tension jusqu'à 20 kV, avec un courant pouvant atteindre 1,5 mA et une résolution de plusieurs dizaines de picoampères. Cet instrument innovant présente un deuxième avantage : la validation des processus de fabrications sans contamination des wafers.
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00618684 , version 1 (02-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00618684 , version 1

Citer

Bertrand Vergne, Gontran Pâques, Jens-Peter Konrath, Sigo Scharnholz, Nicolas Dheilly, et al.. Chambre à Vide de Caractérisation Haute Tension de Composants Semiconducteurs Nus. 13ème EPF, Jun 2010, Saint-Nazaire, France. ⟨hal-00618684⟩
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