Investigation of hysteresis memory effects in SOI FinFETs with ONO buried insulator. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00604643 , version 1 (29-06-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00604643 , version 1

Citer

S.-J. Chang, K.-I. Na, M. Bawedin, Y.-H. Bae, K.-H. Park, et al.. Investigation of hysteresis memory effects in SOI FinFETs with ONO buried insulator.. 2010 IEEE International SOI Conference, Oct 2010, San Diego, California, United States. ⟨hal-00604643⟩
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