Atomic scale evidence of the suppression of boron clustering in implanted silicon by carbon coimplantation - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2011

Atomic scale evidence of the suppression of boron clustering in implanted silicon by carbon coimplantation

T. Philippe
  • Fonction : Auteur
S. Duguay
CV
D. Mathiot
  • Fonction : Auteur
Institut d'Electronique du Solide et des Systèmes
D. Blavette
CV

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https://hal.science/hal-00597120

Soumis le : mardi 31 mai 2011-11:11:03

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:54

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Dates et versions

hal-00597120 , version 1 (31-05-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00597120 , version 1

Citer

T. Philippe, S. Duguay, D. Mathiot, D. Blavette. Atomic scale evidence of the suppression of boron clustering in implanted silicon by carbon coimplantation. Journal of Applied Physics, 2011, 109, pp. 023501_1-4. ⟨hal-00597120⟩

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