Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020

E. Herth; P. Tilmant; M. Faucher; M. François; Christophe Boyaval; Francois Vaurette; Y. Deblock; Bernard Legrand; L. Buchaillot

doi:10.1016/j.mee.2009.12.079

Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2010

Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020

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E. Herth

Fonction : Auteur

P. Tilmant

Fonction : Auteur
PersonId : 745469
IdHAL : pascal-tilmant

M. Faucher

Fonction : Auteur
PersonId : 180403
IdHAL : marc-faucher
ORCID : 0000-0003-0206-9813
IdRef : 086294679

M. François

Fonction : Auteur

Christophe Boyaval

Fonction : Auteur
PersonId : 747971
IdHAL : christophe-boyaval

Francois Vaurette

Fonction : Auteur
PersonId : 743128
IdHAL : francois-vaurette
ORCID : 0000-0002-6850-0242
IdRef : 123805848

Y. Deblock

Fonction : Auteur

Bernard Legrand

Fonction : Auteur
PersonId : 4144
IdHAL : bernard-legrand
ORCID : 0000-0001-5158-3654
IdRef : 137439423

CV

L. Buchaillot

Fonction : Auteur
PersonId : 180198
IdHAL : lionel-buchaillot
ORCID : 0000-0002-9844-0498
IdRef : 060779136

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520

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https://hal.science/hal-00548989

Soumis le : mardi 21 décembre 2010-09:53:47

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Dates et versions

hal-00548989 , version 1 (21-12-2010)

Identifiants

HAL Id : hal-00548989 , version 1
DOI : 10.1016/j.mee.2009.12.079

Citer

E. Herth, P. Tilmant, M. Faucher, M. François, Christophe Boyaval, et al.. Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020. Microelectronic Engineering, 2010, 87, pp.2057-2060. ⟨10.1016/j.mee.2009.12.079⟩. ⟨hal-00548989⟩

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