Fabrication of polycrystalline silicon nanowires using conventional UV lithography

Fouad Demami (1) , Laurent Pichon (2) , Régis Rogel (2) , Anne-Claire Salaün (2)

1 IETR - Institut d'Electronique et de Télécommunications de Rennes
2 IETR - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique

Fouad Demami, Laurent Pichon, Régis Rogel, Anne-Claire Salaün. Fabrication of polycrystalline silicon nanowires using conventional UV lithography. Materials Science and Engineering, 2009, 6 (1), pp.ID 012014. ⟨10.1088/1757-899X/6/1/012014⟩. ⟨hal-00518386⟩