Communication Dans Un Congrès
Année : 2001
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00494490
Soumis le : mercredi 23 juin 2010-13:46:19
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:23:40
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00494490 , version 1
Citer
K.P Giapis, G.S. Hwang, O. Joubert. The role of mask charging in profile evolution and gate oxide degradation. Micro and Nano Engineering (MNE), 2001, Grenoble, France. ⟨hal-00494490⟩
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