Silicon deep cryoetching with the STiGer process

Thomas Tillocher (1) , Vincent L. Girault (1) , Guillaume Gomme (1) , Franck Moro (1) , Laurianne E. Pichon (1) , Julien Ladroue (1) , Jeremy Pereira (1) , Philippe Lefaucheux (1) , Mohamed Boufnichel (2) , Pierre Ranson (1) , Rémi Dussart (1)

1 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
2 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]

Domaines: Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Thomas Tillocher, Vincent L. Girault, Guillaume Gomme, Franck Moro, Laurianne E. Pichon, et al.. Silicon deep cryoetching with the STiGer process. 3RD WORKSHOP ON PLASMA ETCH AND STRIP IN MICROELECTRONICS, Mar 2010, France. ⟨hal-00487360⟩