Communication Dans Un Congrès
Année : 2001
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00486165
Soumis le : mardi 25 mai 2010-11:22:57
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:43
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00486165 , version 1
Citer
P. Schiavone, R. Payerne. Rigorous simulation of line-defects in EUV masks. Microprocess and Nanotechnology, 2001, Matsue, Japan. ⟨hal-00486165⟩
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