Electrodeposition and Characterization of silane thin films from 3-(aminopropyl)triethoxysilane) - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2008

Electrodeposition and Characterization of silane thin films from 3-(aminopropyl)triethoxysilane)

Domaines

Chimie organique
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00480613 , version 1 (04-05-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00480613 , version 1
  • PRODINRA : 248118

Citer

Guillaume Herlem, Olivier Segut, Alexandros Antoniou, Christine Achilleos, Didier Dupont, et al.. Electrodeposition and Characterization of silane thin films from 3-(aminopropyl)triethoxysilane). Surface and Coatings Technology, 2008, 202 (8), pp.1437-1442. ⟨hal-00480613⟩
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