Resist pattern transformation studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy after exposure to reactive plasmas (I) : methodology and examples - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2004

Resist pattern transformation studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy after exposure to reactive plasmas (I) : methodology and examples

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00477287

Soumis le : mercredi 28 avril 2010-15:50:22

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:42:12

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Dates et versions

hal-00477287 , version 1 (28-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00477287 , version 1

Citer

E. Pargon, O. Joubert, N. Posseme, L. Vallier. Resist pattern transformation studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy after exposure to reactive plasmas (I) : methodology and examples. Journal of Vacuum Science and Technology, 2004, B 22, pp.1858. ⟨hal-00477287⟩

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