Etching of porous SiOCH materials in fluoro-carbon based plasmas - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2004

Etching of porous SiOCH materials in fluoro-carbon based plasmas

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00477278

Soumis le : mercredi 28 avril 2010-15:38:54

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:12

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Dates et versions

hal-00477278 , version 1 (28-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00477278 , version 1

Citer

N. Posseme, T. Chevolleau, O. R. Joubert, L. Vallier, N. Rochat. Etching of porous SiOCH materials in fluoro-carbon based plasmas. Journal of Vacuum Science and Technology, 2004, pp.B 22, 2772, (2004). ⟨hal-00477278⟩

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