Impact of chemistry on profile control of resist masked silicon gates etched in high density halogen-based plasmas - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2003

Impact of chemistry on profile control of resist masked silicon gates etched in high density halogen-based plasmas

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00477204

Soumis le : mercredi 28 avril 2010-14:07:02

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:34:25

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Dates et versions

hal-00477204 , version 1 (28-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00477204 , version 1

Citer

X. Detter, R. Palla, I. Thomas-Boutherin, E. Pargon, G. Cunge, et al.. Impact of chemistry on profile control of resist masked silicon gates etched in high density halogen-based plasmas. Journal of Vacuum Science and Technology, 2003, B21, pp.5. ⟨hal-00477204⟩

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