Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2002
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00475906
Soumis le : vendredi 23 avril 2010-11:48:17
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:00:55
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00475906 , version 1
Citer
J. Foucher, O. Joubert, G. Cunge, L. Vallier. Design of notched gate processes in high density plasmas. Journal of Vacuum Science and Technology, 2002, B 20, pp.2024. ⟨hal-00475906⟩
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