Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2002
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00475891
Soumis le : vendredi 23 avril 2010-11:34:57
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:25
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00475891 , version 1
Citer
L. Mollard, G. Cunge, S. Tedesco, B. Dalzotto, J. Foucher. HSQ hybrid lithography for 20 nm CMOS devices development. Microelectronic Engineering, 2002, pp.61-62, 755. ⟨hal-00475891⟩
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