Is it possible to use external stress to tune silicon surface morphology ? - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Science in Semiconductor Processing Année : 2009

Is it possible to use external stress to tune silicon surface morphology ?

D. Karashanova
  • Fonction : Auteur
J.J. Métois
  • Fonction : Auteur
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
F. Leroy
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
CV
Pierre Müller
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
CV

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Hal Cinam  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00475815

Soumis le : vendredi 23 avril 2010-10:08:04

Dernière modification le : jeudi 24 août 2023-15:42:36

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00475815 , version 1 (23-04-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00475815 , version 1

Citer

D. Karashanova, J.J. Métois, F. Leroy, Pierre Müller. Is it possible to use external stress to tune silicon surface morphology ?. Materials Science in Semiconductor Processing, 2009, 12, pp.12-15. ⟨hal-00475815⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-AMU CINAM
11 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More