Understanding of the thermal stability of the hafnium oxide/TiN stack via 2 "high k" and 2 metal deposition techniques - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2007

Understanding of the thermal stability of the hafnium oxide/TiN stack via 2 "high k" and 2 metal deposition techniques

V. Cosnier
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P. Besson
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V. Loup
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L. Vandroux
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S. Minoret
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M. Casse
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X. Garros
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Jm Pedini
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S. Lhostis
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K. Dabertrand
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Laboratoire des technologies de la microélectronique
Céline Morin
C. Wiemer
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M. Perego
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M. Fanciulli
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Soumis le : jeudi 11 mars 2010-09:54:03

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:19

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Dates et versions

hal-00463073 , version 1 (11-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00463073 , version 1

Citer

V. Cosnier, P. Besson, V. Loup, L. Vandroux, S. Minoret, et al.. Understanding of the thermal stability of the hafnium oxide/TiN stack via 2 "high k" and 2 metal deposition techniques. Microelectronic Engineering, 2007, pp.Issue: 9-10, (2007) 1886-1889. ⟨hal-00463073⟩

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