Submicronic Etching in the Cryogenic Process - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00442684 , version 1 (22-12-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00442684 , version 1

Citer

Nasreddine Mekkakia Maaza, Remi Dussart, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson. Submicronic Etching in the Cryogenic Process. 16th International Colloquium on Plasma Processes, Jun 2007, Toulouse, France. ⟨hal-00442684⟩
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