Evaluation of a SrTiO3 sublayer for the integration of ferroelectric material KTN thin films in silicon technology

Type de document :
Communication dans un congrès
E-MRS 2007, May 2007, Strasbourg, France. 2007
Domaine :
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https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00438436
Contributeur : Yolande Sambin <>
Soumis le : jeudi 3 décembre 2009 - 16:27:55
Dernière modification le : mercredi 22 mars 2017 - 09:04:04

Identifiants

  • HAL Id : hal-00438436, version 1

Citation

Annie Guiller, Arnaud-Gides Moussavou, Maryline Guilloux-Viry, Ronan Sauleau, Kouroch Mahdjoubi, et al.. Evaluation of a SrTiO3 sublayer for the integration of ferroelectric material KTN thin films in silicon technology. E-MRS 2007, May 2007, Strasbourg, France. 2007. <hal-00438436>

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