Line-edge roughness transfer during plasma etching: modeling approaches and comparison with experimental results - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Line-edge roughness transfer during plasma etching: modeling approaches and comparison with experimental results

G. Kokkoris
  • Fonction : Auteur
V. Constantoudis
  • Fonction : Auteur
G. Patsis
  • Fonction : Auteur
E. Gogolides
  • Fonction : Auteur
E. Pargon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
M. Martin
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

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https://hal.science/hal-00399796

Soumis le : lundi 29 juin 2009-10:47:45

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:38

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00399796 , version 1 (29-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00399796 , version 1

Citer

G. Kokkoris, V. Constantoudis, G. Patsis, E. Gogolides, E. Pargon, et al.. Line-edge roughness transfer during plasma etching: modeling approaches and comparison with experimental results. SPIE, advanced lithography, 2009, san jose, United States. ⟨hal-00399796⟩

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