Communication Dans Un Congrès
Année : 2009
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00399793
Soumis le : lundi 29 juin 2009-10:46:30
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:26
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00399793 , version 1
Citer
J. Ducote, T. David, N. Possémé, T. Chevolleau, C. Verove, et al.. Patterning of porous SiOCH: metallic and organic hard mask strategies. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 2nd International Workshop, Feb 2009, leuven, Belgium. ⟨hal-00399793⟩
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