Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00398877
Soumis le : jeudi 25 juin 2009-09:35:52
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:26:15
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00398877 , version 1
Citer
J. Foucher, E. Pargon, M. Martin, S. Reyne, C. Dupréa. Paving the way for multiple applications for the 3D-AFM technique in the semiconductor industry. SPIE, advanced lithography, 2008, san jose, United States. ⟨hal-00398877⟩
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