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Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Comparison between metallic and inorganic hard masks used for advanced porous low k patterning

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00398848

Soumis le : jeudi 25 juin 2009-08:59:50

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:47

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00398848 , version 1 (25-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00398848 , version 1

Citer

Maxime Darnon, T. Chevolleau, N. Posseme, T. David, L. Vallier, et al.. Comparison between metallic and inorganic hard masks used for advanced porous low k patterning. 15th International Colloquium on Plasma Processes (CIP), 2005, autrans, France. ⟨hal-00398848⟩

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