Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 2009
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397113
Soumis le : vendredi 19 juin 2009-15:34:13
Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-11:28:54
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397113 , version 1
Citer
E. Pargon, M. Martin, K. Menguelti, L. Azarnouche, J. Foucher, et al.. Plasma impact on 193 nm photoresist linewidth roughness: Role of plasma vacuum ultraviolet light. Applied Physics Letters, 2009, pp.94, (2009), 103111. ⟨hal-00397113⟩
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