Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2008
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00397111
Soumis le : vendredi 19 juin 2009-15:31:58
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:47
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00397111 , version 1
Citer
B. Pelissier, A. Beaurain, R. Gassilloud, J.P. Barnes, F. Martin, et al.. Parallel angle resolved XPS investigations on 12 inch wafers for the study of W and WSix oxidation in air. Microelectronic Engineering, 2008, pp.85 (2008) 1882-1887. ⟨hal-00397111⟩
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